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金相試樣制備及常見問題 金相分析是研究材料內部組織結構的重要方法,一般用來進行失效分析(FA)、質量控制(QC)、研發(fā)(RD)等。而金相試樣制備的目的是獲得材料內部真實的組織結構,需要通過不同的金相試樣制備方法去完成。 一般來說,金相試樣制備的方法有:機械法(傳統(tǒng)意義上的機械制備--磨拋)、電解法(電解拋光和浸蝕)、化學法(化學浸蝕)、化學機械法(化學作用和機械作用同時去除材料)。 金相試樣制備的
援助方案分兩部分,總****過100**民幣。 1、免費捐贈探針臺產(chǎn)品(5臺) A、 ADVANCED PW-400-PCKG 3套 每套配置如下: PW-400:4 inch chuck(探針臺主體) 1 pcs SMZ-168: 20X目鏡 15-100x放大(體式顯微鏡) 1 pcs ADV-5M: 500萬像素,操作軟件(CCD) 1 pcs MP-01: 80TPI,仰角機構,磁性底座(探
失效分析樣品準備: 失效分析是芯片測試重要環(huán)節(jié),無論對于量產(chǎn)樣品還是設計環(huán)節(jié)亦或是客退品,失效分析可以幫助降低成本,縮短周期。 常見的失效分析方法有Decap,X-RAY,IV,EMMI,F(xiàn)IB,SEM,EDX,Probe,OM,RIE等,因為失效分析設備昂貴,大部分需求單位配不了或配不齊需要的設備,因此借用外力,使用對外開放的資源,來完成自己的分析也是一種很好的選擇。我們選擇去外面測試時需要準備
微電子失效分析方法總結 失效分析 趙工 1 、C-SAM(超聲波掃描顯微鏡),無損檢查:1.材料內部的晶格結構,雜質顆粒.夾雜物.沉淀物.2. 內部裂紋. 3.分層缺陷.4.空洞,氣泡,空隙等. 德國 2 、X-Ray(這兩者是芯片發(fā)生失效后首先使用的非破壞性分析手段),德國Fein 微焦點Xray用途:半導體BGA,線路板等內部位移的分析 ;利于判別空焊,虛焊等BGA焊接缺陷. 參數(shù):標準檢測分
公司名: 儀準科技(北京)有限公司
聯(lián)系人: 趙
電 話: 01082825511-869
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地 址: 北京海淀中關村東升科技園
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網(wǎng) 址: advbj123.cn.b2b168.com
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