靶材的制作方法、分類及應用

時間：2022-01-22

作者：醴陵市利吉升新材料有限公司

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詞條
詞條說明
淺談半導體靶材
靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱
工程服務
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鈀靶材的制作方法
目前靶材的制備主要有鑄造法和粉末冶金法。鑄造法：將一定成分配比的合金原料熔煉，再將合金溶液澆注于模具中，形成鑄錠，最后經機械加工制成靶材，鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等，其優(yōu)點是靶材雜質含量(特別是氣體雜質含量)低，密度高，可大型化;缺點是對熔點和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。粉末冶金法：將一定成分
研發(fā)技術
公司團隊服務鍍膜領域十二年，對各材料的靶材研發(fā)、設計、制造、擁有成熟的經驗；公司與國內外各行業(yè)科研院所長期合作，為眾多國內外工程項目提供了優(yōu)質的靶材產品；公司注重用戶實踐與產品研發(fā)，取得多項專利和研發(fā)成果。