【高**靶材】濺射靶材的主要應(yīng)用

時(shí)間：2021-06-01作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：717

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 淺談半導(dǎo)體靶材

  靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設(shè)備中用離子對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱

• 生產(chǎn)制造

  公司2000平方米加工制造中心，先進(jìn)的加工設(shè)備，優(yōu)化的加工工藝，為客戶快速供貨；公司實(shí)行計(jì)劃管理，注重過(guò)程控制，成品出廠100%檢驗(yàn)，為客戶制造國(guó)際品質(zhì)的產(chǎn)品；公司根據(jù)客戶的需求，承接靶材、非標(biāo)的設(shè)計(jì)和制造等服務(wù)。

• 靶材在真空鍍膜中的應(yīng)用

  新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周?chē)臍鍤怆x子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電（glow discharge）將氬氣（Ar）離子撞擊靶材（target）表面，電漿中的陽(yáng)離子會(huì)加速?zèng)_向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個(gè)沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成

• 靶材的制作方法、分類及應(yīng)用

  現(xiàn)階段靶材的制取關(guān)鍵有鑄造法和粉未冶金法。鑄造法：將一定成份配制的合金原材料熔煉，再將合金飽和溶液澆筑于模貝中，產(chǎn)生澆鑄，最終經(jīng)機(jī)械加工制造做成靶材，鑄造法在真空泵中熔煉、鑄造。常見(jiàn)的熔煉方式 有真空泵磁感應(yīng)熔煉、真空泵電孤熔煉和真空電子負(fù)電子熔煉等，其特點(diǎn)是靶材殘?jiān)浚ㄓ绕涫瞧w殘?jiān)浚┑?，相?duì)密度高，可進(jìn)口替代；缺陷是對(duì)溶點(diǎn)和相對(duì)密度相距過(guò)大的二種或兩種以上金屬材料，一般熔煉法難以獲得成份