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質(zhì)量流量計為何要進行穩(wěn)壓補償常用的流量計大多只能夠直接測量流體的體積,并不能直接測量質(zhì)量,如果只測量流體在當前工況下的體積時,質(zhì)量流量計儀表可以直接顯示出來。但是如果要求流量計顯示為流體質(zhì)量時,需要通過計算即時采樣的流體體積參數(shù)與密度參數(shù)相乘的積而得出(質(zhì)量=密度X體積)而并非直接測量出流體的質(zhì)量。質(zhì)量流量計作為流量儀表,它測量出來的數(shù)據(jù)一定要準確,如果要測量流體的質(zhì)量時就涉及到一個問題:就是流體
集成電路自動化裝備-探針臺是晶圓測試領(lǐng)域研究的熱點。由于晶圓片上晶粒很小,達到微米級,所以要求探針臺要保持很高的定位精度和運動精度才能保證探針與晶粒的準確對針和測試。因此,本文主要研究的問題是如何保證探針臺高精密控制,從而達到微米級定位要求。? ? ? ?本文來自于國家02專項-面向12”晶圓片的全自動探針臺關(guān)鍵技術(shù)研究。首先,本文介紹了探針臺兩大部分-LO
小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用,產(chǎn)生E(電場)×B(磁場)所指的方向漂移,簡稱E×B漂移,其運動軌跡近似一條擺線。若為環(huán)形磁場,則電子就
Q1: 什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術(shù)A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫,中文意思是“物相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。?? ? 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司新研發(fā)一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
電 話:
手 機: 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號6幢11單元3層73號
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網(wǎng) 址: zzketan.b2b168.com
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