6英寸高低溫?zé)崤_產(chǎn)品用途介紹

時間：2023-11-11作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：78

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺,小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

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  詞條說明

• PVD真空鍍膜技術(shù)知識問答

  Q1: 什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術(shù)A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。?? ? 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司新研發(fā)一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,

• 6英寸高低溫?zé)崤_產(chǎn)品用途介紹

  本產(chǎn)品為6英寸高低溫?zé)崤_，能夠在高溫400度和低溫-120度的環(huán)境中工作。它是一種用于實驗室、研究及工業(yè)生產(chǎn)過程中進(jìn)行溫度控制的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于各類材料的熱處理、熱性能測試、化學(xué)反應(yīng)、生物樣品處理等方面。本產(chǎn)品具有溫度范圍廣、控溫精度高、操作簡便及使用等特點，是實驗室及工業(yè)領(lǐng)域非常理想的高低溫?zé)崤_設(shè)備。產(chǎn)品用途：1.?材料熱處理：廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、塑料、粉末、納米材料等領(lǐng)域的熱處理、

• 磁控濺射沉積系統(tǒng)設(shè)計

  ?針對光學(xué)和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設(shè)計了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結(jié)論有:(1)在磁控濺射靶裝置設(shè)計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達(dá)10-6 Pa;采用旋轉(zhuǎn)磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預(yù)先清洗時的污染;設(shè)計了靶裝置的驅(qū)動端,完成了電機(jī)

• 探針臺精準(zhǔn)控制關(guān)鍵技術(shù)研究

  集成電路自動化裝備-探針臺是晶圓測試領(lǐng)域研究的熱點。由于晶圓片上晶粒很小,達(dá)到微米級,所以要求探針臺要保持很高的定位精度和運(yùn)動精度才能保證探針與晶粒的準(zhǔn)確對針和測試。因此,本文主要研究的問題是如何保證探針臺高精密控制,從而達(dá)到微米級定位要求。? ? ? ?本文來自于國家02專項-面向12”晶圓片的全自動探針臺關(guān)鍵技術(shù)研究。首先,本文介紹了探針臺兩大部分-LO