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詞條說明
1、樣品臺旋轉(zhuǎn),多樣品同時鍍膜時,鍍膜厚度比較均勻。2、預(yù)濺射擋板功能,剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質(zhì),擋板可以保護(hù)樣品,提高薄膜質(zhì)量3、帶有水冷系統(tǒng),可以長時間濺射鍍膜,厚度可達(dá)1微米以上。4、直流磁控濺射,提高附著力,濺射速率快,比離子濺射快上一個量級。針對某些金屬較快能達(dá)到1-2納米每秒,5、不但可以電鏡制樣,還可以制作金屬電極。6、可擴(kuò)展膜厚監(jiān)測,監(jiān)測薄膜厚度。濺射儀使用需注1 靶材需要
高低溫探針臺-解釋塞貝克系數(shù)測量原理及系數(shù)
塞貝克系數(shù)(Seebeck Coefficient)也稱為熱電偶效應(yīng)或Seebeck效應(yīng),是指兩種不同導(dǎo)體(或半導(dǎo)體)材料在一定溫差下產(chǎn)生熱電動勢的現(xiàn)象。塞貝克系數(shù)是研究熱電材料(將熱能轉(zhuǎn)化為電能的材料)非常重要的一個參數(shù),它用來衡量材料在一定溫差下產(chǎn)生的熱電壓。?塞貝克系數(shù)的測量方法有很多種,其中一種常用的方法是恒流法。準(zhǔn)備一個熱電偶,它由兩種不同材料的導(dǎo)線組成。然后將熱電偶的其中一個
快速退火爐系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)
快速退火爐是現(xiàn)代大規(guī)模集成電路生產(chǎn)工藝過程中的關(guān)鍵裝備? ? ?主要用于離子注入后雜質(zhì)的、淺結(jié)制作、生長高質(zhì)量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術(shù)的飛速發(fā)展,開展快速退火爐系統(tǒng)的技術(shù)研究,對國內(nèi)開發(fā)和研究具有自主知識產(chǎn)權(quán)的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應(yīng)用**。? ? ? 本文針對現(xiàn)代半導(dǎo)體器件退火工藝
小型濺射儀儀問儀答近小伙伴對于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多,今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題:1、膜厚檢測儀原理:膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理,利用頻率測量技術(shù)加上的數(shù)學(xué)算法,進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中,對膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時監(jiān)測。2、濺射儀是否可以鍍鎳:可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁金屬
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
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手 機(jī): 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號6幢11單元3層73號
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網(wǎng) 址: zzketan.b2b168.com
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