電漿清洗機(jī)比超聲波清洗機(jī)在處理微觀材料表層顯得較環(huán)保

時(shí)間：2023-03-07作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：135

深圳子柒科技有限公司專注于等離子表面處理機(jī),全自動(dòng)點(diǎn)膠機(jī),等離子清洗機(jī)等

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  詞條說明

• 大氣等離子清洗機(jī)設(shè)備安裝靈便簡易，可去除塑膠表層的微小積塵

  ?大氣等離子清洗機(jī)設(shè)備安裝靈便簡易，可與智能化生產(chǎn)流水線在線運(yùn)用。利用等離子體內(nèi)各種高能物質(zhì)的活(化)影響，去除附著在物體表層的污垢。其基本原理:在氧等離子體中的氧原子自由基、刺激性氧分子、電子和紫外光線的相同影響下，油污分子結(jié)構(gòu)后面被氧化變成水和CO2分子結(jié)構(gòu)，并從物體表層去除。大氣直噴等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于玻璃光學(xué)、手機(jī)制造、印刷、包裝等諸多行業(yè)。? ? &nbs

• 生物領(lǐng)域等離子處理機(jī)的應(yīng)用原理分析

  生物領(lǐng)域等離子處理機(jī)的應(yīng)用原理分析，即物質(zhì)的*四態(tài)，是由部分喪失電子的原子和電離產(chǎn)生的自由電子組成的離子氣體物質(zhì)。這種電離氣體由原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子組成。其作用可以實(shí)現(xiàn)物體表面的清潔、活化、蝕刻、精整和等離子處理機(jī)表面涂層。由于低溫等離體對(duì)物體表面的處理強(qiáng)度小于高溫等離子體，可以保護(hù)物體表面。我們?cè)趹?yīng)用中使用的大多是低溫等離子體。而且各種粒子在物體處理過程中所表現(xiàn)出的作用也各不相同。&n

• 等離子體CMOS工藝中應(yīng)用于集成電路制造中WAT方法研究

  WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測試，就是在半導(dǎo)體硅片完成所有的制程工藝后，對(duì)硅圓片上的各種測試結(jié)構(gòu)進(jìn)行電性測試，它是反映產(chǎn)品質(zhì)量的一種手段，是產(chǎn)品入庫前進(jìn)行的一道質(zhì)量檢驗(yàn)。? ? ? ??伴隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，等離子體工藝已廣泛應(yīng)用于集成電路制造中，離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會(huì)引入等離子體損

• 工程產(chǎn)品冶金涂層氮?dú)獾入x子表面處理方法

  冶金涂層方法用于各種工程產(chǎn)品中，以提高它們的抗蝕性，耐磨性，疲勞強(qiáng)度和表面硬度。涂覆的方法有二種，一種是在工件表面上附著一層物質(zhì)；另一種是從工件表面向里形成一層不同物質(zhì)的擴(kuò)散層，該層具有可以測定的濃度梯度，而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時(shí)存在。例如，目前對(duì)高載工件一般是先形成硬的氮化物擴(kuò)散層，用它來可靠地支持較硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉