大氣等離子清洗機(jī)設(shè)備安裝靈便簡易，可去除塑膠表層的微小積塵

時(shí)間：2023-03-07作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：163

深圳子柒科技有限公司專注于等離子表面處理機(jī),全自動(dòng)點(diǎn)膠機(jī),等離子清洗機(jī)等

• 詞條

  詞條說明

• 低溫等離子體技術(shù)處理工藝設(shè)計(jì)對(duì)織物濺射銅膜性能影響

  納米銅薄膜是一種新型功能材料具有表面效應(yīng)、**效應(yīng)等特性，其導(dǎo)電性能良好在化工、紡織、醫(yī)學(xué)和電子等廣泛應(yīng)用。低溫等離子體處理技術(shù)是一種對(duì)環(huán)境友好的表面處理技術(shù)，可應(yīng)用于不同材料的表面處理，以實(shí)現(xiàn)清潔、刻蝕或接枝等。? ? ? ? 紡織材料表面采用低溫等離子體技術(shù)處理工藝設(shè)計(jì)后以其為基質(zhì)沉積納米銅薄膜，可作為理想的功能材料并提高紡織品的附加值。未經(jīng)等離子體預(yù)處

• ?plasma等離子體能量密度對(duì)H2氣氛下C2H6脫氫反應(yīng)的影響

  ?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時(shí)，H2添加量對(duì)C2H6脫氫反應(yīng)的影響：隨著H2濃度增加，C2H6轉(zhuǎn)化率，C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加，這表明H2的加入有利于C2H6轉(zhuǎn)化及C2H2、C2H4和CH4生成。產(chǎn)生上述結(jié)果的可能原因是：一方面氫氣因其導(dǎo)熱性好，可大量傳遞熱量，在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV，

• 工程產(chǎn)品冶金涂層氮?dú)獾入x子表面處理方法

  冶金涂層方法用于各種工程產(chǎn)品中，以提高它們的抗蝕性，耐磨性，疲勞強(qiáng)度和表面硬度。涂覆的方法有二種，一種是在工件表面上附著一層物質(zhì)；另一種是從工件表面向里形成一層不同物質(zhì)的擴(kuò)散層，該層具有可以測定的濃度梯度，而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時(shí)存在。例如，目前對(duì)高載工件一般是先形成硬的氮化物擴(kuò)散層，用它來可靠地支持較硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉

• 等離子體CMOS工藝中應(yīng)用于集成電路制造中WAT方法研究

  WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測試，就是在半導(dǎo)體硅片完成所有的制程工藝后，對(duì)硅圓片上的各種測試結(jié)構(gòu)進(jìn)行電性測試，它是反映產(chǎn)品質(zhì)量的一種手段，是產(chǎn)品入庫前進(jìn)行的一道質(zhì)量檢驗(yàn)。? ? ? ??伴隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，等離子體工藝已廣泛應(yīng)用于集成電路制造中，離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會(huì)引入等離子體損