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平板狀氧化鋁研磨微粉


    淄博市淄川大眾磨料廠專注于平板狀氧化鋁研磨微粉等

  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • 【平板狀氧化鋁研磨微粉】怎樣加強(qiáng)氧化鋁研磨球的耐磨性能

    怎樣加強(qiáng)氧化鋁研磨球的耐磨性能加強(qiáng)氧化鋁研磨球的耐磨性能,注意下面三點(diǎn):1、Al2O3原料的顆粒大小會(huì)直接影響到氧化鋁研磨球的耐磨性的,當(dāng)Al2O3原料顆粒越小,它的磨損原理將會(huì)發(fā)生塑性變形以及部分的穿晶斷裂,然后產(chǎn)生輕微的磨損,當(dāng)選擇Al2O3原料的顆粒越大時(shí),它的穿晶斷裂將會(huì)大幅度提升,從而會(huì)出現(xiàn)的嚴(yán)重的磨損,所以從以上兩點(diǎn)的分析,Al2O3原料的晶粒越小,氧化鋁研磨球的耐磨性能將會(huì)越好2、助

  • 低溫氧化鋁細(xì)粉

    低溫氧化鋁細(xì)粉系列?此系列產(chǎn)品用于高鋁耐火材料的粘結(jié)劑及鎂磷耐火材料系列的添加劑以及磨料行業(yè)產(chǎn)品理化指標(biāo):型號(hào)AL2O3SiO2Fe2O3Na2O灼減目數(shù)DW-01>98.5≤0.03≤0.04≤0.31.0200DW-02>98.5≤0.03≤0.04≤0.31.0270DW-03>98.5≤0.03≤0.04≤0.31.0320DW-04>98.5≤0.03≤

  • 半導(dǎo)體材料的研磨拋光

    ? ? ?磨削和研磨等磨料處理是生產(chǎn)半導(dǎo)體晶片必要方式,然而磨削和研磨會(huì)導(dǎo)致單晶硅晶片的表面完整性變差。因此拋光和平面化對(duì)生產(chǎn)微電子原件來(lái)說(shuō)是十分重要的。1簡(jiǎn)介半導(dǎo)體基片的結(jié)構(gòu)厚度已經(jīng)被降低到0.35微米,但拋光和平展化任然是制備微電子原件的必要準(zhǔn)備。因此,拋光半導(dǎo)體基底材料的任務(wù)將在集成電路的制造過(guò)程中的角度來(lái)限定。本次講座的主要重點(diǎn)放在工藝技術(shù),原材料和結(jié)構(gòu)性晶圓

  • MCA平板狀氧化鋁拋光研磨微粉性能指標(biāo)

    粒度分布表單位微米(μm)產(chǎn)品名稱平均粒度最大粒徑(dv-0值)累積高度3%點(diǎn)的粒徑(dv-3值)累積高50%點(diǎn)的粒徑(dv-50值)累積高94%點(diǎn)粒徑(dv-94值)?MCA4040<77.639-44.627.7-31.718-20MCA3535<64.235.4-39.823.8-27.215-17MCA3030<50.428.1-32.319.2-22.313.

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