分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗

時間：2024-01-12

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機
國內某?OLED?鍍膜機廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標準不銹鋼氣動高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規(guī)格:??閥門材質:?-?閥門主體?304&
美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用
上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進行鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3
分子泵組應用于低溫真空探針臺
Pfeiffer?分子泵組應用于低溫真空探針臺真空探針臺一般用于復雜, 高速精密器件進行表面觀測以及各種性能測試的儀器, 通過測試可以產(chǎn)品的質量和性并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本. 探針臺主要應用于半導體行業(yè), 光電行業(yè), 集成電路以及封裝的測試為什么需要真空環(huán)境?1. 真空探針臺通過搭配分子泵組, 配合真空吸附卡盤及真空吸附探針座的使用, 通過空氣壓縮, 固定樣品及探針座.2. 由
分子泵組應用于紅外原位分析平臺
Pfeiffer?分子泵組應用于紅外原位分析平臺紅外原位瞬態(tài)反應過程分析實驗平臺是與世界實驗室同步水平研究的變溫變壓綜合實驗設備, 由原位吸附高真空系統(tǒng), 低溫系統(tǒng), 氣液物料, 探針凈化控制系統(tǒng)和壓力突變等部件組成, 可用于開展樣品的熱脫附, 熱解, 探針分子飽和吸附和探針分子脈沖微吸附等復雜反應過程研究.紅外原位分析平臺的主要特點是對固體材料進行嚴格的高真空和高溫預處理, 可在高真空