KRi 大面積射頻離子源應用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

時間：2024-01-12

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用
分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用進行工業(yè)催化材料分析上海伯東德國 Pfeiffer 經(jīng)濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 可搭配紅外光譜儀共同使用, 進行工業(yè)催化的材料分析. 上海伯東客戶某大學實驗室, 采用浸漬法進行試驗, 為了提高浸漬量, 需要保證在真空環(huán)境下進行, Pfeiffer?分子泵組?Hicube 80 Eco 是前級泵和分子泵的結(jié)合, 體積小巧, 即插即
氦質(zhì)譜檢漏儀 CVD 設備檢漏,滿足第三代半導體芯片量產(chǎn)
氦質(zhì)譜檢漏儀?CVD 設備檢漏, 滿足*三代半導體芯片量產(chǎn)上海伯東某客戶是一家以先進化合物半導體光電器件相關產(chǎn)品衍生智造為主業(yè)的創(chuàng)新型科技公司, 核心產(chǎn)品是物聯(lián)網(wǎng), 5G 通訊, 安防監(jiān)控等*三代半導體芯片. 芯片在生產(chǎn)過程中使用 CVD 設備做鍍膜處理, 在鍍膜過程中需要保持設備處于高真空狀態(tài), 這就要求腔體的泄漏率不能過 1E-10 mbrl l/s.CVD?設備檢漏要
上海伯東 HVA 真空插板閥應用于半導體管道中
因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國 HVA?真空插板閥在半導體管道中的應用半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統(tǒng) ( 真空管路 ) 的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩(wěn)定的供應到工藝設備內(nèi). 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或**高真空的氣體輸送環(huán)節(jié),
HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機
某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,?電子,?進樣室