上海伯東 HVA 真空插板閥應(yīng)用于半導(dǎo)體管道中

時(shí)間：2023-05-23作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：70

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  詞條說(shuō)明

• 氦質(zhì)譜檢漏儀 CVD 設(shè)備檢漏,滿足第三代半導(dǎo)體芯片量產(chǎn)

  氦質(zhì)譜檢漏儀?CVD 設(shè)備檢漏, 滿足*三代半導(dǎo)體芯片量產(chǎn)上海伯東某客戶是一家以**化合物半導(dǎo)體光電器件相關(guān)產(chǎn)品衍生智造為主業(yè)的創(chuàng)新型科技公司, **產(chǎn)品是物聯(lián)網(wǎng), 5G 通訊, 安防監(jiān)控等*三代半導(dǎo)體芯片. 芯片在生產(chǎn)過(guò)程中使用 CVD 設(shè)備做鍍膜處理, 在鍍膜過(guò)程中需要保持設(shè)備處于高真空狀態(tài), 這就要求腔體的泄漏率不能過(guò) 1E-10 mbrl l/s.CVD?設(shè)備檢漏要

• 分子泵組應(yīng)用于紅外原位分析平臺(tái)

  Pfeiffer?分子泵組應(yīng)用于紅外原位分析平臺(tái)紅外原位瞬態(tài)反應(yīng)過(guò)程分析實(shí)驗(yàn)平臺(tái)是與世界實(shí)驗(yàn)室同步水平研究的變溫變壓綜合實(shí)驗(yàn)設(shè)備, 由原位吸附高真空系統(tǒng), 低溫系統(tǒng), 氣液物料, 探針凈化控制系統(tǒng)和壓力突變等部件組成, 可用于開(kāi)展樣品的熱脫附, 熱解, 探針?lè)肿语柡臀胶吞结樂(lè)肿用}沖微吸附等復(fù)雜反應(yīng)過(guò)程研究.紅外原位分析平臺(tái)的主要特點(diǎn)是對(duì)固體材料進(jìn)行嚴(yán)格的高真空和高溫預(yù)處理, 可在高真空

• KRI 離子源用于UVC人機(jī)共存紫外濾光片鍍膜

  ? ?? ?紫外濾光片是一種光學(xué)元件, 通過(guò)使用分散在玻璃材料表面的光學(xué)薄膜控制入射光通過(guò)膜層后不同波長(zhǎng)光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個(gè)波段, 因?yàn)槠渖矬w透過(guò)率低, 被譽(yù)為對(duì)人體的紫外線.222nm遠(yuǎn)紫外產(chǎn)品一定程度上解決了傳統(tǒng)紫外線不能直接照射人體的痛點(diǎn)問(wèn)題, 兼顧了功能性和性, 實(shí)現(xiàn)了人機(jī)友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達(dá)99.9%的細(xì)

• KRI 離子源應(yīng)用于車(chē)載AR-HUD 鍍膜

  ?HUD?已經(jīng)成為一種常見(jiàn)的汽車(chē)配置與功能,?通過(guò)它來(lái)直觀顯示速度、發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速或其他懸停在駕駛員視野中的信息,?減少因低頭查看儀表盤(pán)而造成的分心,?提升駕駛.?目前量產(chǎn)的車(chē)用抬頭顯示?HUD?正在從風(fēng)擋型?W-HUD?逐漸向增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)型的?AR-HUD?發(fā)展：從單純的信息展示屏幕,