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美國 HVA 高真空閥門簡介


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  • 氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測(cè)

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  • KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

    上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

  • 分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

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  • HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

    某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?,作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術(shù)創(chuàng)新者的真空閥門(插板閥),?是高真空閥門的主要制造商和供應(yīng)商.?在設(shè)計(jì)真空系統(tǒng)時(shí),?可以輕松集成?HVA?閥門. HVA?閘閥從5/8英寸(16

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