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等離子體CMOS工藝中應(yīng)用于集成電路制造中WAT方法研究
WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測試,就是在半導(dǎo)體硅片完成所有的制程工藝后,對硅圓片上的各種測試結(jié)構(gòu)進行電性測試,它是反映產(chǎn)品質(zhì)量的一種手段,是產(chǎn)品入庫前進行的一道質(zhì)量檢驗。? ? ? ??伴隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,等離子體工藝已廣泛應(yīng)用于集成電路制造中,離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會引入等離子體損
低溫等離子體技術(shù)處理工藝設(shè)計對織物濺射銅膜性能影響
納米銅薄膜是一種新型功能材料具有表面效應(yīng)、**效應(yīng)等特性,其導(dǎo)電性能良好在化工、紡織、醫(yī)學(xué)和電子等廣泛應(yīng)用。低溫等離子體處理技術(shù)是一種對環(huán)境友好的表面處理技術(shù),可應(yīng)用于不同材料的表面處理,以實現(xiàn)清潔、刻蝕或接枝等。? ? ? ? 紡織材料表面采用低溫等離子體技術(shù)處理工藝設(shè)計后以其為基質(zhì)沉積納米銅薄膜,可作為理想的功能材料并提高紡織品的附加值。未經(jīng)等離子體預(yù)處
?等離子處理機誘導(dǎo)產(chǎn)生的活性種(例如自由基等),提供了表面二(乙二醇)甲醚分子碎片再次相結(jié)合做好反應(yīng)的機制。自由基落入成的分子網(wǎng)絡(luò)中,可觸發(fā)劇烈的電子激發(fā)原位氧化反應(yīng)。?對等離子處理機處理后的鋁片分子層構(gòu)造做ATR-FTIR剖析,在1583.07cm處有個較強的吸收峰,這也是PEG構(gòu)造中C-O鍵的特征吸收峰,表明沉積的表面層是類PEG構(gòu)造。1780.21cm處的吸收峰,說明有C
自2020年起,在全國開展"一盔一帶"安全守護行動,到現(xiàn)在為止,適當和標準地在電瓶車上戴頭盔已成為提高城市公交安全防范意識的一個重要方面。雖然近幾年來頭盔生產(chǎn)加工的科技含量不高,但也呈現(xiàn)出智能化系統(tǒng)、高抗撕裂、高韌性、輕質(zhì)、爆表等發(fā)展趨勢。等離子表面處理機的表面處理技術(shù)在頭盔生產(chǎn)制造中有什么作用?下面小編就和大家互相探討一下。? ? ? ?制作頭盔的過程包括
公司名: 深圳子柒科技有限公司
聯(lián)系人: 熊生
電 話:
手 機: 13714491283
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地 址: 廣東深圳寶安區(qū)華宏工業(yè)園A棟
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網(wǎng) 址: ziqiplasma.b2b168.com
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