半導(dǎo)體制造及**封裝持續(xù)升溫

時(shí)間：2025-03-10作者：鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司瀏覽：208

鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積,金剛石涂層等

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  詞條說明

• 第十七屆全國MOCVD學(xué)術(shù)會議與您太原相見！

  2022年8月15日-18日，2022十七屆全國MOCVD學(xué)術(shù)會議選擇在中國·太原·湖濱國*際大酒店舉行。金屬**化學(xué)氣相淀積（MOCVD）技術(shù)自二十世紀(jì)六十年代提出以來，取*得了飛速進(jìn)步，已經(jīng)廣泛應(yīng)用于制備III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半導(dǎo)體材料及其**結(jié)構(gòu)，較*大地推動了光電子器件和微電子器件與芯片的發(fā)展及產(chǎn)業(yè)化，也成為半導(dǎo)體**晶格、**阱、**線、**點(diǎn)結(jié)構(gòu)材料及相

• 新聞快訊-鵬城半導(dǎo)體MOCVD設(shè)備

  材料的輸運(yùn)采取了**純的氣路系統(tǒng)，源的切換和輸入采用了多路組合閥進(jìn)氣技術(shù)。由于組合閥具有較小的死空間，使得源的殘留量非常少，有利于生長具有陡峭界面的材料。采用壓差控制技術(shù)控制組合閥的旁路和主路之間的壓力，大大降低了源的壓力和濃度波動，有利于材料生長的重復(fù)性和穩(wěn)定性。采用了管道鑲嵌式進(jìn)氣噴頭，使反應(yīng)源在襯底表面均勻混合并反應(yīng)，大大降低了預(yù)反應(yīng)的發(fā)生。采用電阻式快速升降溫加熱爐。

• 重磅-鵬城半導(dǎo)體子公司鵬城微納獲3項(xiàng)計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書！

  近日，經(jīng)*人民共和國國家**審核，根據(jù)《zhrnghg計(jì)算機(jī)軟件保護(hù)條例》和《計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定，“鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司-全資子公司鵬城微納技術(shù)（沈陽）有限公司”獲3項(xiàng)《zhrnghg國家**計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書》，分別是：《多功能磁控濺射系統(tǒng)軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統(tǒng)軟件V1.0》。從頒證之日起，該3

• 等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有哪些特點(diǎn)《臺風(fēng)資訊》

  等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學(xué)氣相沉積)，另一個(gè)是PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)，它們都是在20世紀(jì)70年代發(fā)展起來的鍍膜工藝。其特點(diǎn)是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態(tài)無機(jī)物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內(nèi)應(yīng)力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產(chǎn)生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了