氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測(cè)

時(shí)間：2023-04-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：76

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• HVA真空閥門成功應(yīng)用于粒子系統(tǒng)

  伯東代理的美國(guó)?HVA?真空閥門成功應(yīng)用于中國(guó)研制的亞洲大的粒子系統(tǒng).??HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):?-?閥門主體?304?不銹鋼?-?焊接波紋管軸封?AM - 350?閥門密封方式&nb

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA?高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)OLED 鍍膜機(jī)主要面向半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應(yīng)用一般科研用鍍膜機(jī)的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達(dá)到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時(shí)需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵

• 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺(tái)密封性泄露檢測(cè)

  氦質(zhì)譜檢漏儀高真空排氣臺(tái)密封性泄露檢測(cè)上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā)多工位高真空和高真空排氣臺(tái), 實(shí)現(xiàn)多工位同時(shí)抽真空的效果, 真空度需要穩(wěn)定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統(tǒng)在內(nèi)的多個(gè)組件, 均需要進(jìn)行密封性泄露測(cè)試, 以保證高真空性能. 經(jīng)過(guò)上海伯東推薦真空系統(tǒng)**組件分子泵選用德國(guó) Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無(wú)油干式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D?

• KRI 霍爾離子源應(yīng)用于黑膜鍍制

  ? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見(jiàn)光、近紅外光以及中遠(yuǎn)紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒(méi)有反射的表面處理技術(shù).?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應(yīng)用前景.?如可在精密光學(xué)儀器和光學(xué)零件、醫(yī)療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產(chǎn)品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產(chǎn)