KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

時間：2024-01-10

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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美國 HVA 真空閥門選型
上海伯東美國?HVA 真空閥門選型實例產(chǎn)品系列特點口徑HVA 真空閘閥 11000 系列介面, 控制方式全包括DN 16 到 DN 600HVA 真空層流閘閥 13000系列防腐蝕DN 40 到 DN 300HVA 真空層流閘閥 16000系列防顆粒污染DN 40 到 DN 350HVA 矩形閥 21200 系列長使用壽命DN 16 到 DN 300HVA 3位真空閘閥 21700系列
HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機
某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,?電子,?進樣室
KRI 離子源應用于車載AR-HUD 鍍膜
?HUD?已經(jīng)成為一種常見的汽車配置與功能,?通過它來直觀顯示速度、發(fā)動機轉速或其他懸停在駕駛員視野中的信息,?減少因低頭查看儀表盤而造成的分心,?提升駕駛.?目前量產(chǎn)的車用抬頭顯示?HUD?正在從風擋型?W-HUD?逐漸向增強現(xiàn)實型的?AR-HUD?發(fā)展：從單純的信息展示屏幕,
HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機
因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機用于在半導體, 光學, **導材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導電薄膜, 半導體薄膜, 鐵電薄膜, 光學薄膜和介質材料.E-Beam 鍍膜機設備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進樣室 (可選) , 旋轉基片加熱臺, 工作氣