為您提供高性價比真空鍍膜設備解決方案《520愛情風暴來襲》

時間：2023-03-30

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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詞條說明
中國材料大會|鵬城半導體技術（深圳）有限公司
會議時間：2024年7月8-11日會議地點：廣州白云國際會議中心主辦單位：中國材料研究學會“中國材料大會”是中國材料研究學會的學術年會，是重要的系列品牌會議之一，是中國新材料界學術水平較高、涉及領域較廣、*動態(tài)較新的****學術大會，是面向國家重大需求、推動新材料*重大突破的高水平品牌大會。為推動經(jīng)濟社會高質量發(fā)展，加快建設科技強國，實現(xiàn)高水平科技自立自強，擬于2024年7月8-11日在廣東省廣
等離子體化學氣相沉積設備有哪些特點《臺風資訊》
等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積)，另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)，它們都是在20世紀70年代發(fā)展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態(tài)無機物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產(chǎn)生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了
PVD技術在半導體器件中的應用
在快速發(fā)展的半導體技術領域，物相沉積（PVD）是實現(xiàn)薄膜沉積工藝精度和效率的關鍵工具。讓我們一起來了解PVD技術在半導體行業(yè)中的應用。物相沉積涉及在半導體襯底上沉積薄膜，利用諸如濺射或蒸發(fā)等物理過程。PVD的多功能性和可控性使其成為半導體制造中的寶貴工具，可以創(chuàng)建復雜和的設備。PVD在微電子學中的應用薄膜晶體管(TFTs)PVD在TFT的制造中起著關鍵作用，TFT是平板顯示器、發(fā)光二管(OLED)
「喜訊」熱烈祝賀鵬城半導體榮獲4項軟件著作權專利證書
近日，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）申請的《PVD薄膜沉積系統(tǒng)軟件》、《高真空濺射系統(tǒng)軟件》、《電子束蒸鍍薄膜沉積系統(tǒng)軟件》、《微米晶、納米晶金剛石薄膜CVD沉積系統(tǒng)軟件》4項軟件著作權**通過審批，經(jīng)*人民共和國國家**考證，根據(jù)《*人民共和國計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權登記辦法》的規(guī)定，鵬城半導體技術（深圳）有限公司被認定這4項軟件的法定著作權人，從頒證