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詞條說明
對于使用者來說,應(yīng)嚴(yán)格遵循TYDEX光學(xué)元件處理和清潔的注意事項,否則很有可能導(dǎo)致太赫茲光學(xué)元件的性能受到損傷。下面將分類介紹太赫茲光學(xué)元件的處理和清潔。一、太赫茲偏振片、陷波濾波器1.處理光學(xué)器件的光學(xué)表面對機械沖擊、污染和化學(xué)物質(zhì)非常敏感。因此,請?zhí)貏e注意這種光學(xué)元件。所有Thz光學(xué)元件都需要以面朝上的方式安裝或裝入外殼中。要卸下光學(xué)組件,請小心握住它的邊緣,不要碰到表面。切勿觸摸光學(xué)元件的凹
隔振技術(shù)可分為被動隔振(又稱無源隔振)和主動隔振(又稱有源隔振)。被動隔振只能對某一特定的窄頻段振動起到衰減作用,而對于隔振對象狀態(tài)變化較大和振動干擾時變性較強的場合不太適合;同時,由于穩(wěn)定性的限制,被動隔振也無法對低頻振動進行衰減。而主動隔振技術(shù)是在被控系統(tǒng)中引入次級振源,并通過一定的控制方法調(diào)節(jié)次級振源的輸出,使其產(chǎn)生的振動與主振源(干擾)的振動相抵消,從而達到隔振的目的。與被動隔振技術(shù)相比,
高光譜成像設(shè)備主要由三個部分組成,物鏡,成像光譜儀,灰度相機。對于線掃式相機,每次成像都要逐行掃描成像。物鏡將目標(biāo)物成像傳遞至光譜儀,光譜儀通過色散元件得到連續(xù)的單波長光譜信息再成像到灰度相機上,最后用計算機把收集到的每一行的光譜數(shù)據(jù)進行整合與分析。高光譜成像的技術(shù)優(yōu)勢具有以下幾個方面。1. 覆蓋波段廣,光譜分辨率高,可以采集到大量的數(shù)據(jù),以便于精確建模。2. 成像原理簡單,便于系統(tǒng)集成化,常見的
根據(jù)操作條件和應(yīng)用要求,RPC Photonics的工程散射片可以將激光光束散射成特定形狀的光斑,具體包括強度均勻照明、工程散射片均勻照明和工程擴散片均勻光斑。在本文中,我們討論了定義光分布的一些典型方法以及兩種常見的照明條件,即角度空間上的強度分布和工作面上輻照度。1.強度Intensity,或者說,輻射強度定義為散射片向給定方向發(fā)射的每單位立體角功率。可以想象探測器沿著以散射片為中心的圓弧移動
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