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等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有哪些特點(diǎn)《臺(tái)風(fēng)資訊》
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學(xué)氣相沉積),另一個(gè)是PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積),它們都是在20世紀(jì)70年代發(fā)展起來(lái)的鍍膜工藝。其特點(diǎn)是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態(tài)無(wú)機(jī)物膜;2、等離子體清洗基材,使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜,內(nèi)應(yīng)力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產(chǎn)生微裂紋;4、低溫成膜,溫度對(duì)基材沒(méi)什么影響,避免了
材料的輸運(yùn)采取了**純的氣路系統(tǒng),源的切換和輸入采用了多路組合閥進(jìn)氣技術(shù)。由于組合閥具有較小的死空間,使得源的殘留量非常少,有利于生長(zhǎng)具有陡峭界面的材料。采用壓差控制技術(shù)控制組合閥的旁路和主路之間的壓力,大大降低了源的壓力和濃度波動(dòng),有利于材料生長(zhǎng)的重復(fù)性和穩(wěn)定性。采用了管道鑲嵌式進(jìn)氣噴頭,使反應(yīng)源在襯底表面均勻混合并反應(yīng),大大降低了預(yù)反應(yīng)的發(fā)生。采用電阻式快速升降溫加熱爐。
真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特膜層的技術(shù),在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)有三種形式:即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。在這里主要講下磁控濺射鍍膜。磁控濺射技術(shù)在市場(chǎng)中應(yīng)用非常的廣泛,各行各業(yè)物件膜層鍍膜,大多數(shù)都是采用磁控濺射技術(shù),磁控濺射技術(shù)在真空行業(yè)也是非常的受歡迎和追捧。高真空磁控濺射鍍膜是屬于物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種,一般的濺
重磅-鵬城半導(dǎo)體子公司鵬城微納獲3項(xiàng)計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書(shū)!
近日,經(jīng)*人民共和國(guó)國(guó)家**審核,根據(jù)《zhrnghg計(jì)算機(jī)軟件保護(hù)條例》和《計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定,“鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司-全資子公司鵬城微納技術(shù)(沈陽(yáng))有限公司”獲3項(xiàng)《zhrnghg國(guó)家**計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書(shū)》,分別是:《多功能磁控濺射系統(tǒng)軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統(tǒng)軟件V1.0》。從頒證之日起,該3
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
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生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機(jī)
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
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