美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用

時間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：81

伯東企業(yè)（上海）有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

• 詞條

  詞條說明

• KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

  ?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質(zhì)表面通過特殊的鍍膜工藝而形成的光學(xué)元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長, 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長定位準(zhǔn)確、透過高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點, 是激光設(shè)備應(yīng)用中常見的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在

• 振動樣品磁強計 VSM 磁滯回線測試應(yīng)用|上海伯東代理英國進口Nano

  振動樣品磁強計 VSM 磁滯回線測試應(yīng)用 上海伯東代理英國 NanoMagnetics 儀器振動樣品磁強計 VSM 主要用于測量塊狀, 粉末, 薄片, 單晶和液體各種材料的測量. 振動樣品磁強計 VSM 可完成磁滯回線, 起始磁化曲線, 退磁曲線及溫度特性曲線, IRM 和 DCD 等曲線的測量. 搭配不同的高低溫選件可進行磁化數(shù)據(jù)的溫度函數(shù)的測量, 測定居里溫度點等. 上海伯東代理英國 Nano

• 美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用

  上海伯東美國?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護, 安裝于各類真空設(shè)備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機, lo

• KRI 離子源應(yīng)用于舞臺燈光濾光片鍍膜

  ?? 舞臺燈光雖然呈現(xiàn)是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過在光源前加上特定的光學(xué)濾光片,?對光進行“加工”,?反射和透過特定的波段,?來達到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產(chǎn)生不同顏色.?而在光學(xué)元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜