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美國(guó) KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用


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  • 模塊式檢漏儀應(yīng)用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)

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  • KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

    上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

  • 氦質(zhì)譜檢漏儀真空鍍膜配氣面板檢漏

    氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340?真空鍍膜配氣面板檢漏上海伯東某客戶生產(chǎn)高純度特種氣體不銹鋼減壓閥門, 接頭, 管件, 這些配件主要用于集成在真空鍍膜配氣面板, 實(shí)現(xiàn)工藝氣體的傳輸. 為了防止氣體外泄, 除了閥門, 接頭, 管件需要單檢漏外, 整個(gè)配氣面板也需要測(cè)試整體漏率, 使用上海伯東德國(guó) Pfeiffer?氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340, 真空模式下, 漏率設(shè)置為 5.5x

  • HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)

    因產(chǎn)品配置不同,價(jià)格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA?高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)OLED 鍍膜機(jī)主要面向半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應(yīng)用一般科研用鍍膜機(jī)的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達(dá)到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時(shí)需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵

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