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磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的作用,產(chǎn)生漂移,因而導(dǎo)致傳濺射效率低,電
質(zhì)量流量計為何要進(jìn)行穩(wěn)壓補償常用的流量計大多只能夠直接測量流體的體積,并不能直接測量質(zhì)量,如果只測量流體在當(dāng)前工況下的體積時,質(zhì)量流量計儀表可以直接顯示出來。但是如果要求流量計顯示為流體質(zhì)量時,需要通過計算即時采樣的流體體積參數(shù)與密度參數(shù)相乘的積而得出(質(zhì)量=密度X體積)而并非直接測量出流體的質(zhì)量。質(zhì)量流量計作為流量儀表,它測量出來的數(shù)據(jù)一定要準(zhǔn)確,如果要測量流體的質(zhì)量時就涉及到一個問題:就是流體
?微型探針臺尺寸小、重量輕,具備變溫測試及真空測試功能,適用于科研工作,也適用于與其他儀器聯(lián)用,是一款非常有特點的微探針系統(tǒng)。? ? ? 鄭科探真空探針臺主要應(yīng)用于傳感器,半導(dǎo)體,光電,集成電路以及封裝的測試。 廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā),旨在確保質(zhì)量及可靠性,并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本。儀器特點:工作距離短、尺寸小,帶有視窗,可以
濕度和氣體濃度實驗設(shè)備產(chǎn)品優(yōu)勢
這個帶有濕度控制的氣體濃度發(fā)生器具有一系列強(qiáng)大的功能和性能參數(shù),特別適合需要在高濕度和寬范圍氣體濃度中準(zhǔn)確控制和檢測的應(yīng)用。以下是一些關(guān)鍵的性能參數(shù)和特性:- AI智能控制算法:采用**的AI智能控制算法,能夠在大范圍的氣體濃度比例下準(zhǔn)確穩(wěn)定地控制氣體濕度。- 寬廣的濃度稀釋范圍:該設(shè)備的濃度稀釋范圍為1-5000倍,適應(yīng)各種應(yīng)用環(huán)境。- 高精度流量檢測:流量檢測精度可達(dá)到±1% F.S,流量線性
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
電 話:
手 機(jī): 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號6幢11單元3層73號
郵 編:
網(wǎng) 址: zzketan.b2b168.com
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