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氧化鋯靶材:高性能材料的核心秘密 氧化鋯靶材是薄膜沉積技術中的關鍵材料,廣泛應用于半導體、光學鍍膜、太陽能電池等領域。它的高熔點、優(yōu)異的化學穩(wěn)定性以及良好的機械強度,使其成為高端鍍膜工藝的首選。 高熔點與穩(wěn)定性 氧化鋯的熔點高達2700℃,遠高于普通金屬氧化物,這使得它在高溫環(huán)境下仍能保持穩(wěn)定。在濺射鍍膜過程中,靶材需要承受高能粒子的轟擊,而氧化鋯的耐高溫特性確保了鍍膜過程的穩(wěn)定性和均勻性。此外,
中山金靶材廠是一家生產高屬材料、蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司。公司擁有多名中**技術人員和化實驗室,具備強大的蒸發(fā)材料開發(fā)能力。通過不懈努力,公司先后研發(fā)的金靶材系列產品廣泛應用于國內外電子和太陽能企業(yè),成功取代了國外進口產品,得到用戶的。金靶材,也稱金屬靶材,是高速粒子轟擊的目標材料,具有廣泛的應用領域,包括光學涂層、生物醫(yī)學、電子器件和納米技術等。在光學涂層領域,金靶
汕頭三氧化鋁靶材:推動高科技產業(yè)發(fā)展的關鍵材料 在當今高科技產業(yè)迅速發(fā)展的背景下,各類新材料的應用需求不斷增長。作為一家專業(yè)生產高純金屬材料、蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司,我們引以為傲的產品之一便是汕頭三氧化鋁靶材。三氧化鋁靶材具有高純度、高密度、穩(wěn)定性和優(yōu)異的熱環(huán)境承受能力,廣泛應用于微電子工業(yè)、精密光學和表面工程等領域,為推動這些領域的發(fā)展發(fā)揮著關鍵作用。 在微電子工
銻化鋅靶材:半導體與光電領域的關鍵材料 銻化鋅靶材是一種重要的功能材料,在半導體、光電和太陽能電池等領域有著廣泛應用。它的獨特性能使其成為薄膜沉積工藝中的理想選擇,尤其在制備高效率光電器件時表現出色。 銻化鋅(ZnSb)是一種典型的半導體化合物,具有優(yōu)良的熱電性能和光電轉換效率。作為靶材,它能夠在磁控濺射、脈沖激光沉積等工藝中形成高質量的薄膜。這種薄膜在紅外探測、光伏電池和透明導電薄膜等領域發(fā)揮
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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