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小型濺射儀儀問儀答較近小伙伴對于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多,今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題:1、膜厚檢測儀原理:膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理,利用頻率測量技術(shù)加上**的數(shù)學(xué)算法,進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中,對膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測。2、濺射儀是否可以鍍鎳:可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁
探針臺精準(zhǔn)控制關(guān)鍵技術(shù)研究
集成電路自動(dòng)化裝備-探針臺是晶圓測試領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。由于晶圓片上晶粒很小,達(dá)到微米級,所以要求探針臺要保持很高的定位精度和運(yùn)動(dòng)精度才能保證探針與晶粒的準(zhǔn)確對針和測試。因此,本文主要研究的問題是如何保證探針臺高精密控制,從而達(dá)到微米級定位要求。? ? ? ?本文來自于國家02專項(xiàng)-面向12”晶圓片的全自動(dòng)探針臺關(guān)鍵技術(shù)研究。首先,本文介紹了探針臺兩大部分-LO
小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場和磁場作用,產(chǎn)生E(電場)×B(磁場)所指的方向漂移,簡稱E×B漂移,其運(yùn)動(dòng)軌跡近似一條擺線。若為環(huán)形磁場,則電子就
質(zhì)量流量計(jì)為何要進(jìn)行穩(wěn)壓補(bǔ)償
質(zhì)量流量計(jì)為何要進(jìn)行穩(wěn)壓補(bǔ)償常用的流量計(jì)大多只能夠直接測量流體的體積,并不能直接測量質(zhì)量,如果只測量流體在當(dāng)前工況下的體積時(shí),質(zhì)量流量計(jì)儀表可以直接顯示出來。但是如果要求流量計(jì)顯示為流體質(zhì)量時(shí),需要通過計(jì)算即時(shí)采樣的流體體積參數(shù)與密度參數(shù)相乘的積而得出(質(zhì)量=密度X體積)而并非直接測量出流體的質(zhì)量。質(zhì)量流量計(jì)作為流量儀表,它測量出來的數(shù)據(jù)一定要準(zhǔn)確,如果要測量流體的質(zhì)量時(shí)就涉及到一個(gè)問題:就是流體
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
電 話:
手 機(jī): 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號6幢11單元3層73號
郵 編:
網(wǎng) 址: zzketan.b2b168.com
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