土三軸試驗(yàn)的原理及應(yīng)用

時(shí)間：2023-08-02作者：蘇州紐邁分析儀器股份有限公司瀏覽：95

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

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  低場(chǎng)核磁共振技術(shù)研究國(guó)產(chǎn)cmp研磨液什么是cmp研磨液？CMP 全稱(chēng)為 Chemical Mechanical Polishing，即化學(xué)機(jī)械拋光。該技術(shù)是半導(dǎo)體晶圓制造的比備流程之一，對(duì)高精度、高性能晶圓制造至關(guān)重要。拋光液的主要成分包括研磨顆粒、PH值調(diào)節(jié)劑、氧化劑、分散劑等。從成分中我們就大概知道了拋光液是一種對(duì)分散要求很高的納米材料懸浮液，所以研磨過(guò)程中對(duì)顆粒的尺寸變化以及顆粒在懸浮液中的