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反應釜物料控溫設(shè)備是一種廣泛應用于科研、生物、物理、醫(yī)藥、化工等領(lǐng)域的機械制冷制熱設(shè)備。有多種型號,可根據(jù)不同尺寸、不同功能、不同環(huán)境等。 目前,絕大多數(shù)反應釜物料控溫設(shè)備都采用了PID控制技術(shù)。在選擇時,還應考慮加熱功率、媒介循環(huán)壓力和流量。 反應釜物料控溫設(shè)備由壓縮機、冷凝器、膨脹閥、換熱器、溫度控制器、循環(huán)泵、預冷單元、加熱單元、制冷單元等多種附件組成。 每個部件都有自己的作用和優(yōu)點。當空
在芯片制造過程中,淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller作為一種關(guān)鍵設(shè)備,發(fā)揮著一定作用。本文將對芯片制造工藝中的淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller進行詳細介紹。 一、淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller的作用 淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller在芯片制造工藝中主要起到冷卻作用。在芯片制造過程中,各種設(shè)備產(chǎn)生的熱量較高,如光刻機、刻蝕機等,如果熱量控制不當,將會影響芯片的制造質(zhì)量和效率。淺溝道
一拖四高低溫一體機是一種實驗室設(shè)備,可以在高溫和低溫環(huán)境下進行各種實驗,在選購一拖四高低溫一體機時,需要考慮多方面因素,包括溫度范圍、精度、穩(wěn)定性、冷卻方式等。 1、溫度范圍 選購一拖四高低溫一體機時,需要考慮您的實驗所需溫度范圍。一般來說,一拖四高低溫一體機的溫度范圍在-100℃至+200℃之間。如果您需要寬的溫度范圍,則需要選擇特殊的設(shè)備。 2、精度 一拖四高低溫一體機的溫度精度對實驗結(jié)果有
隨著半導體行業(yè)技術(shù)的發(fā)展,半導體行業(yè)對設(shè)備的要求也越來越高。其中,多晶硅刻蝕雙通道chiller冷卻設(shè)備是半導體制造過程中的一種設(shè)備,在半導體制造過程中,需要將芯片冷卻到低的溫度,以確保其性能和穩(wěn)定性。 其中,多晶硅刻蝕雙通道chiller是一種常見的半導體冷卻設(shè)備。它通過將冷卻劑循環(huán)使用,將芯片冷卻到所需的溫度范圍。多晶硅刻蝕雙通道chiller的主要功能是提供穩(wěn)定的溫度控制,以確保芯片在制造
公司名: 無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
聯(lián)系人: 劉經(jīng)理
電 話:
手 機: 17715697029
微 信: 17715697029
地 址: 江蘇無錫錫山區(qū)江蘇省無錫市錫山區(qū)翰林路55號
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網(wǎng) 址: lneya2022.b2b168.com
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