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詞條說明
離子鍍的原理:離子鍍是在真空室中,利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí),將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者**結(jié)合起來, 不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量,而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜 附著力 強(qiáng),繞射性好,膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點(diǎn)是我們可以通過產(chǎn)生由高度電離的蒸發(fā)物質(zhì)文化組成的等離子體,其中離子之間
磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)有哪些?
在真空鍍膜技術(shù)中,磁控濺射鍍膜技術(shù)屬于比較常見的一種鍍膜技術(shù)。今天,廣東真空鍍膜設(shè)備廠家就告訴大家,磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn): 1、沉積速度快、基材溫升低、對(duì)膜層的損傷??; 2、對(duì)于大部分材料,只要能制成靶材,就可以實(shí)現(xiàn)濺射; 3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好; 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好; 5、濺射工藝可重復(fù)性好,可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜; 6、能夠控制
真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的設(shè)備,目前生活中使用到的物品都離不開真空鍍膜行業(yè)。但是許多人都不知道真空鍍膜的主要構(gòu)成部分,接下來讓我們一起來認(rèn)識(shí)一下真空鍍膜機(jī)的主要構(gòu)成部分。其中有:真空室、真空獲得部分、真空測(cè)量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動(dòng)部分、加熱及測(cè)溫部分、離子蒸發(fā)及濺射源、水冷系統(tǒng)。1、真空室涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機(jī)兩種形式,不銹鋼材料制造、氬弧
? ? ??卷繞式真空鍍膜設(shè)備,包括設(shè)置有放卷裝置、鍍膜室和收卷裝置的真空腔體,鍍膜室設(shè)置有與驅(qū)動(dòng)電機(jī)輸出軸連接的鍍膜輥,放卷裝置包括一放卷輥和一主動(dòng)的送料輥輪對(duì),送料輥輪對(duì)與鍍膜輥之間設(shè)置有張力釋放輥,該張力釋放輥是使料卷在送料輥輪對(duì)與張力釋放輥之間保持松弛狀態(tài)的輥輪;收卷裝置包括一主動(dòng)的收卷輥,鍍膜輥與收卷輥之間亦設(shè)置有送料輥輪對(duì),該送料輥輪對(duì)與收卷輥之
公司名: 廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司
聯(lián)系人: 吳先生
電 話:
手 機(jī): 18011984646
微 信: 18011984646
地 址: 廣東廣州黃埔區(qū)起云路8號(hào)5棟411房、5棟412房
郵 編:
網(wǎng) 址: gdzhenhuavac.b2b168.com
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